Dátum:2024-02-15 Forrás: blikk.hu A holland ASML vállalat bemutatta a következő generációs nagy-NA (numerikus apertúrájú) litográfiai gépét. A kétlépcsős extrém ultraibolya (EUV) litográfiai rendszer az első az ilyen berendezések új generációjában, amely 8 nm-es felbontást tesz elérhetővé a fejlett logikai és memóriachipek gyártásához. TOVÁBB A TELJES CIKKHEZ >>